Amb motiu de la celebració del Dia Mundial de la Propietat Intel·lectual 2016, enguany sota el lema "Creativitat digital: reinventar la cultura", IVACE i l'Oficina Espanyola de Patents i Marques (OEPM) organitzen el 26 d'abril la jornada: La Nova Llei Espanyola de Patents.
Aquesta nova llei equipara la normativa espanyola sobre patents a l'àmbit internacional i enforteix el sistema de patents nacional, establint un marc legal que preval l'activitat veritablement inventiva i nova, implantant un únic procediment de concessió que beneficiarà a la seguretat jurídica dels sol·licitants i millorarà a més la imatge de la patent espanyola.
A més, durant la setmana del 25 al 29 d'abril, el Claustre de l'Edifici A, en la Ciutat Administrativa 9 d’Octubre de València, acollirà l'exposició itinerant de cartells "Lluita contra la falsificació", entre els quals es troben els cartells guanyadors i finalistes del concurs que cada any convoca l'Associació Nacional per a la Defensa de la Marca (ANDEMA) amb el suport de l'OEPM, destinat a premiar el millor disseny de cartell basat en un lema original relatiu a la lluita contra les falsificacions perquè siga la imatge del Dia Mundial contra la Falsificació.